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        赫爾納-供應德國直采microchemicals光刻膠

        參考價面議
        具體成交價以合同協議為準
        • 公司名稱赫爾納貿易(大連)有限公司
        • 品       牌
        • 型       號AZ ®
        • 所  在  地大連市
        • 廠商性質經銷商
        • 更新時間2022/7/7 10:56:05
        • 訪問次數782
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        德國赫爾納貿易公司,是一個立足德國專注于亞洲,尤其是中國和東南亞市場,經營德國高品質工業品的性技術服務以及貿易供應商。本著將歐洲的產品和技術帶到中國的理念,我們始終關注的自動化產品的發展方向,我們的技術團隊會將這些產品充分理解,介紹到中國來。德國赫爾納貿易公司已經是中德工業品互動*的一員。

        赫爾納貿易(大連)有限公司是德國赫爾納貿易公司在大連設立的全資德資企業,立足于有效方便的服務于中國工業客戶。我們在中國的8個省市設有銷售和服務辦事處,他們是北京,上海,成都,廣州,沈陽,長春,南京,總部大連。赫爾納貿易(大連)有限公司將為德國赫爾納貿易公司有效的服務中國客戶,做出自己的貢獻。

         

        閥門,泵,液壓氣動,儀器儀表,電子電氣,通用零部件
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        赫爾納-供應德國直采microchemicals光刻膠microchemicals光刻膠另一方面,負性抗蝕劑如AZ &#174; nLOF 2000 系列或AZ &#174; 15nXT和AZ &#174; 125nXT,通過隨后的烘烤步驟在曝光區域交聯(對于AZ &#174; 125nXT不是必需的)并保留在顯影后的底材。
        赫爾納-供應德國直采microchemicals光刻膠 產品信息

        赫爾納-供應德國直采microchemicals光刻膠赫爾納-供應德國直采microchemicals光刻膠

        赫爾納貿易優勢供應,德國總部直接采購,近30年進口工業品經驗,原裝產品,支持選型,為您提供一對一好的解決方案:貨期穩定,快速報價,價格優,在中國設有8大辦事處提供相關售后服務.

        microchemicals光刻膠主要產品:

        1.  光刻膠

        2.  增粘劑

        3.  蝕刻混合物

        4.  電鍍

        microchemicals光刻膠產品型號:

        l  AZ ® 15nXT

        microchemicals光刻膠產品特點:

        光刻膠正抗、負抗和反轉抗蝕劑

        在正性抗蝕劑的情況下,由于在那里發生茚羧酸的形成,曝光區域變得可溶于顯影劑中。由于正性抗蝕劑不交聯,過其軟化點(約 100-130°C)會導致抗蝕劑輪廓變圓。

        microchemicals光刻膠產品應用:

        microchemicals光刻膠另一方面,負性抗蝕劑如AZ ® nLOF 2000 系列或AZ ® 15nXTAZ ® 125nXT,通過隨后的烘烤步驟在曝光區域交聯(對于AZ ® 125nXT不是必需的)并保留在顯影后的底材。

        在高溫下,交聯也可以油漆輪廓變圓。然而,在高工藝溫度下,熱交聯度會增加到這樣的程度,以至于濕化學剝離變得困難甚至不可能。

        microchemicals光刻膠圖像反轉抗蝕劑可以正片和負片兩種方式處理。雖然在正模式下,與正抗蝕劑的工藝順序相同,但負模式曝光后反向烘烤步驟,然后是泛光曝光。樹脂的交聯僅在負模式下發生很小的程度,因此油漆結構在油漆軟化點以上變得圓潤

        microchemicals光刻膠適當的涂層

        microchemicals光刻膠旋涂是用光刻膠涂覆基材的常用方法。幾乎的 AZ ® TI 涂料都為此進行了優化,并允許平滑且非常均勻的層厚。所到的涂料層厚度與旋轉速度的平方根的倒數成正比,因此可以在每種涂料的特定范圍內進行調整。由于邊緣珠在低旋轉速度下更明顯,因此應使用AZ ® 4562AZ ® 9260等高粘度涂料和合適的旋轉曲線來獲得較大的漆膜厚度。

        噴涂 還允許涂覆高度紋理化的基材。為獲得均勻的漆層厚度、光滑的漆面和良好的邊緣覆蓋率,使用具有不同蒸氣壓的不同溶劑的優化混合物,如在噴漆AZ ® 4999TI Spray中預設的那樣。

        浸涂 可以在大平方米范圍內的大型矩形基材上進行非常具有成本效益(高油漆產量!)的涂層。為了在整個基板表面上獲得均勻的抗蝕劑層厚度,對溶劑成分進行佳調整,就像MC Dip Coating Resist一樣。

        干化學蝕刻具有盡可能高的軟化點和垂直抗蝕劑邊緣的抗蝕劑掩模。為此,AZ ® 701 MIR 14cps29cps針對非常高的分辨率要求進行了優化。油漆僅在 130°C 左右開始變圓。

        厚抗蝕劑處理:如果過 5 µm 的抗蝕劑層厚度,則使用適當的厚抗蝕劑,例如AZ ® 4562AZ ® 9260,或負性AZ ® 15nXTAZ ® 125nXT。除了層厚約 10 µm 的垂直油漆邊緣外,后者還由于其交聯性而提供出色的熱穩定性。

        漆膜厚度

        許多針對特定應用進行了優化的光刻膠可提供各種調整后的粘度,以實現大范圍的抗蝕劑層厚度。通常后兩位數字表示清漆以 100 nm 為單位(在本例中為 3.2 µm),在 4000 rpm(無 Gyrset)下到的抗蝕劑層厚度。抗蝕劑層厚度隨著旋轉速度的平方根而減小(例如AZ ® 4533:在 2000 ... 4000 ... 6000 rpm 時為 4.0 µm ... 3.3 µm ... 2.3 µm),因此一定的粘度,所到的漆層厚度可以在一定范圍內調整。如果要擴大這些限制,建議使用另一個可用的粘度等級。通過用 PGMEA (= AZ ® EBR Solvent ) 稀釋高粘度光刻膠) 或其他合適的溶劑(例如乙酸丁酯或乳酸乙酯),具有不同抗蝕劑層厚度的工藝基本上可以使用一種光刻膠進行。然而,應該注意的是,稀釋的光刻膠傾向于形成不同程度的顆粒,這取決于光刻膠系統。由于粒子本身由光引發劑組成,因此即使在粒子過濾后,光刻膠的性能也會受到限制:暗磨損增加(未曝光的光引發劑 = 顯影劑中的抑制劑),顯影速率下降,即光刻膠的度下降.

        用薄光刻膠堆積厚光刻膠層是有問題的,原因有兩個:為此所需的低旋轉速度會增加邊緣珠,并且薄光刻膠中通常高濃度的光引發劑會導致強烈的 N2 形成,并伴有起泡和/或應力當已經形成的厚抗蝕劑層暴露在光線下時會出現裂縫,或者無法進行透光曝光。

        光譜靈敏度

         

         


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